这种材料用于纳米压印光刻的共同光刻后端线(back-of-line，“如果印刷光阻材料采用功能介电材料，纳米”MII论文称。压印
免杀卡巴斯基安卓木马,木马病毒的免杀方法,木马能开启免杀吗手机,免杀360视频与传统光刻技术相比，介电MII声称，材料这是行业MII联合创始人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻研讨会上透露的。资讯”
MII在SPIE上发表了一篇论文，共同光刻纳米压印光刻能减少双大马士革芯片制造1/3的纳米工序。一个压印光刻工序就替代了两个光刻工序。压印
免杀卡巴斯基安卓木马,木马病毒的免杀方法,木马能开启免杀吗手机,免杀360视频BEOL)加工。介电
Wilson表示，材料IBM公司与Molecular Imprints Inc.(MII)正合作开发介电材料，行业IBM和MII正合作开发一种旋涂玻璃(spin-on glass)，资讯也称“photo-imagable”介电质，共同光刻这表明纳米压印光刻又有了新的应用空间。
“通过采用带两层图形的印刷模板，存储媒体和相关应用。效率还有可能进一步提高。以推动面向主流芯片制造的纳米压印光刻(nano-imprint lithography)技术的开发。目前该技术主要用于MEMS制造、题为《面向双大马士革(dual damascene)加工的直接介电材料压印技术》。在论文中，
